menu
banner

Coucheuse de revêtement par pulvérisation ionique magnétron DC ou RF sous vide poussé de laboratoire

Personne à contacter:Gilia Ding


Courriel : gilia@inthelaboratory.com

Tél:+86 177 5900 4070
Téléphone:+86-177-59004070
Whatsapp: +86 177 5900 4070
Wechat:Dingqiuna



  • Numéro d\'article:

    LITH-650MH
  • Paiement:

    L/C, T/T, Western Union, Credit Cards, Paypal
  • Délai de mise en œuvre:

    7 days
  • Conformité:

    CE Certified
  • garantie:

    Two years limited standard warranty
  • Détail du produit

Revêtement de pulvérisation ionique magnétron DC ou RF sous vide poussé de laboratoire 


Coucheuse  

 



Introduction

Le revêtement par pulvérisation ionique magnétron sous vide poussé   est idéal et conçu pour la science des matériaux et la préparation d'échantillons. Il est largement utilisé par la majorité des universités et des instituts de recherche scientifique en science et ingénierie des matériaux pour revêtir, pour les métaux, les céramiques, les semi-conducteurs, les isolants ou d'autres types de préparation de matériaux membranaires.

La coucheuse de pulvérisation ionique magnétron sous vide poussé fournit l'environnement de pulvérisation le plus stable et atteint les conditions expérimentales de base de la pulvérisation magnétron en très peu de temps. Il fournit deux types d'options de puissance de pulvérisation CC / RF qui permettent de pulvériser une substance conductrice ou non conductrice sur l'échantillon et améliorent les performances de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Il est également excellent pour le traitement de surface et le revêtement.  Il est également facile à utiliser et convivial.

La pompe à vide et le refroidisseur sont inclus.

 


Paramètre

Ensemble  de pompe à vide 

( Huile requise)  P ompe  à vide  rotative + ( sans huile)  ensemble  de pompe t urbo  m oléculan

Vitesse de  pompage rotatif  _

50 Hz : 16 / h (4,4 L/s)/ 60 Hz : 19,2 /h (5,2 L/s) 

Vitesse de   pompage moléculaire _

300 L/ s

Limite de vide 

5x10 -5 Pa

 Pression de travail

0,5-5 Pa

Temps d' aspiration 

>10 Min(10 -3 Pa)

Mesure  du vide

Plage de mesure de l'atmosphère à  1*10 Pa

Contrôle du gaz 

 Contrôleur de débit de gaz 

Taille de la chambre 

φ260 * 200mm (hauteur)  métal

Source  cible  de magnétron _

Taille cible φ 50 *3mm(Cu)/ source cible  m atériaux /  substance magnétique faibles

Méthode de fonctionnement 

Manuel d' instructions

Poids / taille

100 kg/610 mm de longueur x 420 mm de largeur x 490 mm de hauteur 

Alimentation  électrique _

CA 110V 60Hz ou CA 220V 50Hz

Consommation électrique  _

<3000W

 Méthode de refroidissement

 Refroidissement par air ( pompe ) +  refroidissement par eau  ( cible de pulvérisation  )

garantie

Garantie limitée d'un an avec support produit à vie 


Enduit de pulvérisation RF

Coucheuse par pulvérisation magnétron
Coucheuse de revêtement sous vide
Enduit de pulvérisation RF
Enduit de pulvérisation RF

Couche de pulvérisation sous vide



Produits connexes

Maison

Des produits

skype

whatsapp